Réduire le PWM de l'éclairage tout en allongeant la durée d'exposition pour imprimer des couches fines?

[amundsen]

Bonjour,

J'essaie d'imprimer des couches fines (10um) sur mon Anycubic Photon Mono 4K, mais j'ai des couches plus épaisses. Je me suis dit qu'en réduisant le PWM de la lumière et éventuellement en compensant par des temps d'exposition plus longs cela pourrait fonctionner. Est-ce que quelqu'un a déjà expérimenté ce genre de choses? Sur quelles valeurs de PWM partir et comment compenser la durée? Linéairement, genre PWM à 50% (127) et durée double par exemple?

[pjtlivjy]

bonjour @amundsen je n'ai jamais imprimé en aussi faible épaisseur mais ça ne peut pas être à mon avis linéaire pour 2 raisons :  l'opacité de la résine va diminuer et donc le risque d'exposer à nouveau la couche précédente est réelle et puis la couche de résine emmagasine de la chaleur et le risque de déformation augmente avec la baisse de l'épaisseur 

[amundsen]

Je n’avais pas pensé à l’opacité et à la chaleur. Merci de me faire prendre conscience de ces variables.

[pjtlivjy]

c'est le but du forum, échanger ... je crois que tu vas devoir faire quelques essais @amundsen pour trouver le bon compromis